无锡设备外壳抗指纹加工厂生产基地「无锡拓龙科技」

由于原理不同，两种方式所呈现出来的优劣势各不相同，对工件表面精度的影响也存在差异。

离散型研磨，上下两个研磨盘***行相互研磨，然后对工件进行研磨，三者分别有不同的研磨轨迹，工件研磨终是三种运动

轨迹的结合。运动轨迹比较复杂，不会发生重合，所以随着时间的增加，工件的两个表平面平行度逐步提升，终能达到非常高的平行度。

相对而言，在固结研磨中，研磨机上的磨盘和磨片表面虽然能修整到较高的平行度，但是由于工件是粘贴在磨盘上的，粘贴剂有一定的厚度和误差，这将一定程度影响工件的平行度。这就是***早使用的表面抛光技术，也就是至今仍在使用的机械抛光技术的原形。而且，固结研磨的研磨轨迹是磨盘和工件两种运动轨迹的结合，工件外侧的线速度大于内侧线速度，外侧研磨量比内侧研磨量要大，随着时间的增加，很容易导致工件内凸外陷，所以工件的平行度误差相对也较大。

平面抛光机是在工业生产领域内被广泛所利用的一个对半产成品深加工的机器设备，其作用主要是对工件表面在生产加工或者是在后期处理的过程中出现的表面凹痕、划伤和塌陷问题。经由该设备的处理后不仅能将这些产成的残次品回复如初，从新回到镜面的效果。还能将生产出来的半成品直接加工成镜面。因而根据使用条件的不同还需要在钢中加入钼（Mo）、铜（Cu）、氮（N）等元素，以改善钝化膜的组成，进一步提高不锈钢的耐蚀性。其主要的功能也是用来加工半成品，而非残次品。也正是该设备拥有这样的功用，也使得其在工业的生产中被应用的越来广泛。

平面抛光机是一种拥有高精密度的设备，但是其实他开始衍生于我们在以前没有机器化生产的时候所使用的打磨机，只不过随着机器化大生产时代的到来，生产加工商将该设备做了深层次的开发，提高了其转速，程控自动化等，用高速旋转的效果来完成其工作需要达到的高精密度效果。模具抛光主要用机械抛光来进行是为了得到更好的产品质量与加工精度，而且相对于其它工艺，在成本上也相对廉宜。

影响模具抛光质量的因素　由于机械抛光主要还是靠人工完成，无锡拓龙科技所以抛光技术目前还是影响抛光质量的主要原因。除此之外，还与模具材料、抛光前的表面状况、热处理工艺等有关。3M公司不仅可以提供普通砂带，还可以提供更加适合拉丝的金字塔系列砂带和不织布尼龙砂带。的钢材是获得良好抛光质量的前提条件，如果钢材表面硬度不均或特性上有差异，往往会产生抛光困难。钢材中的各种夹杂物和气孔都不利于抛光。

1、毛刺过大。毛刺会严重影响后续制管，所以在纵剪分条时一定要控制毛刺的大小。毛刺是不可避免的，但是大小是可以控制的。要达到不锈钢平面抛光镜面效果，一般我们分三大步：粗抛，半精抛，精抛粗抛：一般自动平面研磨抛光机都使用硬质的磨盘，如铜盘，铁盘。随着刀具间隙增加，毛刺会变大。所以要选取合适的间隙，根据笔者的经验硬度高的像300系列的间隙一般取板厚的12%，400系的取板厚的10%就比较合适。另外刀具刃口钝化也会造成毛刺过大，刀具管理人员要定期打磨刀片。

2、局部毛刺突出。当边部周期性的有毛刺突出，一般是刀具出现崩口，此时要停机检查，找到崩口的刀具并更换。排刀人员在排刀前要检查好刀具，避免出现崩口的刀具。

3、毛刺大小不均匀，表现为同一边部时大时小，或者同一条料两边大小不一。主要由于刀轴偏离，上下刀轴不平行，造成刀具间隙不稳定。此时要校准刀轴。

4、边波浪。当刀具间隙过小，条料受到刀具侧压过大，造成边部挤压，形成波浪状。另外，当刀具侧面不平，造成侧压不稳定，也会产生边波浪。所以排刀间隙不能选取太小，另外排刀前要检查刀具侧面是否有破损或不平整。

敏化现象。不锈钢因含有Cr在表面形成氧化铬薄膜，失去化学活性，称为钝化状态，但奥氏体系若经过475~850℃温度范围时，C会与Cr结合生成碳化铬（Cr23C6）析出在晶体边界，因此晶界附近的Cr含量大减，成为贫Cr区。2）用这种拉丝方式，拉丝表面可以带一定曲率，甚至是小突台例如文字标识等，因为不织布辊刷有很好的贴服性（不织布结构的特点将在后面拉丝研磨产品里具体介绍）。此时，其耐腐蚀性会降低，对腐蚀环境特别敏感，故称为敏化现象。敏化现象在氧化酸的使用环境容易腐蚀，此外还有焊接热影响区和热间弯曲加工区。其防治方法有：

a) 在475~850℃温度范围升降时，迅速通过，让Cr没有足够的时间和C结合，无法析出碳化铬。

b) 对已经发生敏化现象的不锈钢施以高温固溶化处理，加热至足以使碳化铬分解的温度（1040~1150℃），然后急速冷却，使碳化铬来不及析出。

c) 选用低碳型不锈钢加入304L、304LN、316L、316LN、316J1L、317L、317LN，使Cr无法与C结合。一般C含量在0.05%以下，焊接便不会产生晶界腐蚀，但须特别注意清洁，避免油污等含C物质的污染。4、采用气缸加压的方式对工件进行加压处理，其压力大小可以根据需要设置。在含氢氧酸的混合酸中使用，C含量在0.03%以下。