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   平面抛光是应用柔性抛光对象和磨料颗粒对工件外面停止的润饰加工和去毛刺。抛光不克不及进步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此获得滑腻外面或镜面光芒为目标。平面抛光是寄托异常细小的抛光粉的磨削、滚压感化，撤除试样磨面上的极薄一层金属。

   平面抛光时，抛光机上的抛光轮在作高速扭转，操作者将被抛光的制件外面以恰当的压力按压在 抛光轮上，这时候因磨擦感化而发生低温，使被抛光的外面容易发生变形而构成一层“加工变质层”。在扭转着的磨擦力的感化下，一方面外面的某些凸出部门被削去，同时金属制件外面也会发生塑性变形，突出部位被压人，或挪动一段间隔后填人凸起部位。而这种金属的分子结构不活跃，所以不容易与空气发生化学反应，但是并不带表不锈钢不会生锈，这需要看使用的方式和地点。这类削凸填凹的整平进程，以高速率大规模地重复停止，加之抛光膏的光明化感化，成果就使本来较粗拙的制件外面，变得腻滑而光明。

由于原理不同，两种方式所呈现出来的优劣势各不相同，对工件表面精度的影响也存在差异。

离散型研磨，上下两个研磨盘***行相互研磨，然后对工件进行研磨，三者分别有不同的研磨轨迹，工件研磨终是三种运动

轨迹的结合。运动轨迹比较复杂，不会发生重合，所以随着时间的增加，工件的两个表平面平行度逐步提升，终能达到非常高的平行度。

相对而言，在固结研磨中，研磨机上的磨盘和磨片表面虽然能修整到较高的平行度，但是由于工件是粘贴在磨盘上的，粘贴剂有一定的厚度和误差，这将一定程度影响工件的平行度。在模具抛光中，工艺相对复杂，流程可以分为粗抛、半精抛、精抛几步。而且，固结研磨的研磨轨迹是磨盘和工件两种运动轨迹的结合，工件外侧的线速度大于内侧线速度，外侧研磨量比内侧研磨量要大，随着时间的增加，很容易导致工件内凸外陷，所以工件的平行度误差相对也较大。

研磨机属于典型的自动化设备，它的结构包括工件工作台进给机构、工件调整机构、研磨轮进给及压力控制机构和自动控制系统四大部分。研磨加工过程就是利用游离磨粒对零件表面进行刮削和挤压去除材料的过程，达到提高平面度和降低表面粗糙度的目的。

PLC的出现，为研磨机、抛光机的飞跃做出了很大的贡献，可以说是一个质的改变。它取代了传统的继电器，在新的发展中占了很大的比重。它为机器的自动控制，为车间、工厂的生产提高了很大的效率。1Cr13(410)、2Cr13(420)、3Cr13()、1Cr17Ni2()优点：含碳量高，硬度高。在平面研磨机上也是采用的PLC程控系统，在很大程度上缩短了出产时间，提高我们的生产效率。也可以很大的节约人工。让研磨抛光变得更加便利。

在模具抛光中，工艺相对复杂，流程可以分为粗抛、半精抛、精抛几步。模具抛光主要用机械抛光来进行是为了得到更好的产品质量与加工精度，而且相对于其它工艺，在成本上也相对廉宜。

在抛光的过程中，应该分开在两个工作地点来完成粗抛加工和精抛加工，而且要注意清洗干净上一道工序残留在工件表面的砂粒。一般从油石到1200#砂纸完成粗抛光后，工件需转移到无尘间进行抛光，确保空气中无灰尘微粒粘在模具表面。抛光不克不及进步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此获得滑腻外面或镜面光芒为目标，偶然也用以打消光芒（消光）。如果要进行更为精密的高精密抛光或者超精密抛光，则必须在洁净的空间内。

在抛光工艺完成后，工件表面要做好防护工作，避免工件表面遭到损坏。当抛光过程停止时，应仔细去除所有研磨剂和润滑剂，保证工件表面整洁，随后应在工件表面喷涂一层模具防锈层。